중국의 첨단 칩 개발 가속화, 2024~25년 ASML DUV 장비 확보에 130억 달러 이상 지출

 핵심적 본문 요약
중국 기업들이 2026년 초까지 약 343대의 immersion DUV 노광 장비를 확보했다. 이는 주로 ASML NXT:1980i 모델로, 7nm급 로직 칩과 첨단 메모리 생산에 활용 가능하다. 네덜란드의 수출 규제 강화에도 불구하고, 2024년과 2025년에 걸쳐 130억 달러 이상이 지출되었으며, ASML 매출에서 중국 비중은 41%와 33%를 기록했다.
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(In)sight
중국의 DUV 장비 대량 확보는 반도체 자립 가속화를 시사한다. ASML의 대중 매출 비중이 2024년 41%에서 2025년 33%로 감소한 반면, 중국은 재고 축적과 국산화 병행으로 규제 리스크를 분산하고 있다. 단기적으로는 수출 통제 영향이 제한적이나, 장기적으로 AI 칩 생산 역량이 중국의 기술 패권 경쟁에서 변수로 작용할 전망이다. 화웨이 주도의 국산 DUV 개발은 공급망 재편 가능성을 높인다.

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