Компанія Intel першою на ринку зробила ставку на літографію High-NA EUV (EUV-літографія з високою числовою апертурою), першою запустила масове виробництво чипів і тепер, як повідомляють, подолала позначку в 1 млн кремнієвих пластин, створених за допомогою відповідного обладнання.
Якщо рахувати від моменту встановлення першої машини на фабриках компанії, то на це пішло два роки. Однак масове виробництво в кожному разі стартувало лише в липні. Наразі в розпорядженні компанії є три відповідні машини ASML: дві TWINSCAN EXE:5000 та одна сучасніша TWINSCAN EXE:5200B.
Також варто зазначити, що це досягнення Intel означає, що вона обробила більше пластин на машинах High-NA EUV, ніж решта галузі разом узята.
💻 Підписатись
Компанія Intel першою на ринку зробила ставку на літографію High-NA EUV (EUV-літографія з високою чи
Dream Machines Ukraine 💻
@DMUkraineОфіційний канал Dream Machines в Україні Кастомні ігрові ноутбуки та периферія: www.dreammachines.com.ua Пишемо про новини IT-індустрії, передові технології та інші цікаві речі Для підписників каналу діють спеціальні пропозиції, знижки та розіграші!
13,126 subscribers
Open in Telegram