📝 핵심적 본문 요약
EUV 노광 공정에서 포토마스크 오염을 막는 펠리클은 폴리머 소재가 빛을 흡수하며 타버려 CNT가 대안으로 부상했다. CNT는 열팽창이 적어 수명을 늘리지만 빛 흡수와 수소 라디칼에 의한 메탄화 문제가 남는다. 이를 해결하려 듬성한 분산 기술과 루테늄 ALD 코팅이 요구되며, 미쓰이화학과 아이멕이 시장을 선도하고 에프에스티와 에스앤에스텍이 추격 중이다.
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✨(In)sight
가설은 High-NA EUV 출력 상승이 펠리클 소재 교체를 강제하며 CNT 수요를 구조적으로 견인한다는 것이다. 미쓰이화학은 아이멕 원천기술과 ASML 인증 이력으로 양산 우위를 점하고, 에프에스티는 카나투 설비 기반 파일럿 라인으로, 에스앤에스텍은 어썸레이 협업으로 국산화를 시도한다. 포토마스크 단가가 억에서 백억 단위로 뛰며 펠리클은 수율과 원가 경쟁력의 핵심 변수로 부상했으나, ALD 코팅과 루테늄 조달 비용, 고객사 테스트 및 인증 통과 여부가 실적 가시성을 좌우한다. 원천기술 조달 후 양산 집중 전략의 성패가 관건이다.
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