📝 핵심적 본문 요약
SMEE가 상하이 국제수입박람회에서 전공정 건식 스캐닝 투영 노광 장비 SSC800과 SSB800을 공개하였다. 두 모델은 I선과 KrF 공정을 지원하며 핵심 부품의 90퍼센트 이상을 중국 내에서 조달한다. SSC800은 110나노급 이상, SSB800은 280나노급 이상 공정을 겨냥한다. 누적 처리 웨이퍼는 1천만 장을 상회하고 가동률은 92퍼센트를 넘는다. 상하이아이성나는 액침 DUV 양산을 시작하였으나 ASML 대비 격차가 큰 것으로 평가된다.
(#천상천하 #jkhan012)
✨(In)sight
노광 장비 국산화 진척은 반도체 장비 업종 내 공급망 재편 가능성을 시사한다. SMEE의 건식 DUV 양산 실적은 성숙 공정 중심 매출 기반을 확보한 근거로 해석되나 액침 DUV는 테스트 단계에 머문다. 실적 견인 여부는 웨이퍼 처리량과 가동률 지표로 확인되고 기대감은 수출 통제 완화 기대와 뒤섞여 변동성이 크다. ASML과의 기술 격차가 유지되는 동안 국산화 수혜는 장비 부품군으로 제한될 가능성이 높다.
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